近日，國(guo)家科技(ji)重大專項(xiang)(xiang)“極(ji)大規模(mo)集成(cheng)電路制(zhi)造裝備(bei)(bei)及成(cheng)套工藝”部署的(de)“90-65nm等離(li)子(zi)體(ti)增強(qiang)化(hua)學氣相沉積（PECVD）設備(bei)(bei)研發(fa)與應用”項(xiang)(xiang)目順利完成(cheng)，實現了(le)12英寸PECVD設備(bei)(bei)的(de)國(guo)產(chan)化(hua)，填補了(le)國(guo)內空白，提升(sheng)了(le)我國(guo)集成(cheng)電路產(chan)業整體(ti)競(jing)爭(zheng)力(li)。
PECVD設(she)(she)備(bei)(bei)是集成(cheng)電路制(zhi)造(zao)(zao)的(de)核心設(she)(she)備(bei)(bei)之一，技(ji)(ji)術(shu)(shu)難度大，單臺(tai)價(jia)值(zhi)高。一直以來，12英(ying)(ying)寸(cun)(cun)PECVD技(ji)(ji)術(shu)(shu)被歐(ou)美(mei)以及日本等國(guo)(guo)(guo)(guo)家(jia)(jia)所壟斷(duan)。在國(guo)(guo)(guo)(guo)家(jia)(jia)科技(ji)(ji)重大專(zhuan)項的(de)部署及支(zhi)持下，由(you)企業(ye)與科研院所聯合研發(fa)，攻克了(le)(le)12英(ying)(ying)寸(cun)(cun)PECVD設(she)(she)備(bei)(bei)的(de)架(jia)構平臺(tai)設(she)(she)計、薄(bo)膜工(gong)藝開發(fa)、仿真理論計算、設(she)(she)備(bei)(bei)可靠性(xing)及工(gong)藝可重復性(xing)、薄(bo)膜均勻性(xing)控制(zhi)、射頻技(ji)(ji)術(shu)(shu)等關鍵技(ji)(ji)術(shu)(shu)問題，申(shen)請了(le)(le)專(zhuan)利307項，建立了(le)(le)技(ji)(ji)術(shu)(shu)標準10項，12英(ying)(ying)寸(cun)(cun)等離(li)子體(ti)增強化(hua)學氣相(xiang)沉積（PECVD）設(she)(she)備(bei)(bei)(PF-300)榮獲國(guo)(guo)(guo)(guo)家(jia)(jia)重點新產(chan)品。產(chan)品通過了(le)(le)中芯(xin)國(guo)(guo)(guo)(guo)際(ji)12英(ying)(ying)寸(cun)(cun)晶圓制(zhi)造(zao)(zao)及蘇(su)州晶方、華(hua)進半導體(ti)、華(hua)天(tian)科技(ji)(ji)的(de)12英(ying)(ying)寸(cun)(cun)三維封裝(zhuang)的(de)生(sheng)產(chan)驗證、采購認證與使用，各項指標達到(dao)國(guo)(guo)(guo)(guo)際(ji)水平，成(cheng)本為國(guo)(guo)(guo)(guo)際(ji)設(she)(she)備(bei)(bei)的(de)70%。目(mu)前項目(mu)實現了(le)(le)7臺(tai)12英(ying)(ying)寸(cun)(cun)PECVD的(de)銷售，另有(you)5臺(tai)設(she)(she)備(bei)(bei)已經交付(fu)用戶，產(chan)品及服務得到(dao)了(le)(le)用戶的(de)一致認可。

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